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    苏州晶淼湿法蚀刻机

    产品品牌

    JM晶淼

    发货期限:

    60-90天

    库       存:

    10

    产       地:

    中国-江苏省

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    面议
    交易保障 担保交易 网银支付
     湿法蚀刻设备,可广泛用于IC生产和半导体元器件生产中晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除硅片表面的有机物.颗粒.金属杂质.自然氧化层及石英.塑料等附件器皿的污染物,且不破坏晶片表面特性。可用于扩散前、光刻后、CMP后及氧化前等工艺的刻蚀清洗。例如:RCA清洗、SPM清洗、HPM清洗等。

     

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