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    NXQ紫外光刻机NXQ4006

    应用于半导体行业:

    半导体加工设备-光刻设备-UV光刻机

    产品品牌

    NXQ

    规格型号:

    发货期限:

    3个月天

    库       存:

    1

    产       地:

    美国

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    面议
    交易保障 担保交易 网银支付

    品牌:NXQ

    型号:套

    所属系列:半导体加工设备-光刻设备-UV光刻机

     恩科优(NXQ)4000系列半⾃自动掩膜对准曝光系统,融合了独立的模块化设计,精准控制对准和曝光等特点。自动程序控制使得该系统易于操作存储和使用,适合实验室多用户使用。该系统以其卓越的性能,经济的价格,深受全球用户喜爱,截止2011年底,超过4000台NXQ光刻机遍布全世界的科研实验室、研发中心和工业生产线。
    系列型号(根据曝光基片的尺寸范围选择合适的型号)
    NXQ4006 半自动型(可处理最大到6英寸的基片)
    NXQ4008 半自动型(可处理最大到8英寸的基片)
    适用领域(包括但不限于下述领域的光刻工艺)
    微电子
    LED/HB LED
    3D IC/晶圆制造工艺
    2.5D Interposer
    MEMS
    BioMEMS
    微流控芯片
    化合物半导体
    太阳能(HCPV)
    光电子
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