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    mask aligner光刻机

    库       存:

    100

    产       地:

    全国

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

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    主营:半导体测试设备、晶圆工艺设备

    地区:中国-广东省

    地址:深圳市宝安区西乡恒丰工业城C1栋3楼

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    品牌:

    型号:

    所属系列:半导体二手设备-二手芯片制造前段设备

    应用领域
       电子封装(晶片凸点和晶片级CSP)
       光电设备(LEDs,激光二极管,波导阵列)
       探测器  (CCD,近/远 红外,实时X射线)     
       MEMS 和MOEMS 设备显示器  (LCDs,聚合体LCD,OLED)

    适用感光层
       适用与各种类型的光刻胶及Dry-film, BCB, Polyimide, SU-8
       适用与G, H, I线及深紫外曝光

    适用基材半导体材料

       Si, SiGe, SOI, SOS, GaAs, InP, InSb, CZT, MCT,LiNbO3, 石英, 玻璃,

       Flex, Rigid substrates (FR-4, BT-epoxy), Kapton, metal

    特点

       使用365/400/436纳米波长的近紫外波长,最小线宽可以做到0.6微米以下 

       CCD传送图像,操作员可以通过显示器轻鬆完成掩范本和基板的对准,减少疲劳,降低误操作

       同档次设备中性价比极高,稳定性媲美欧洲产品,完善的技术支援和业内口碑良好的售后服务

       高效率的产能,45片-60片/小时

       机型设计简洁,操作方便,功能升级无须更换机型,维护所需时间和成本极少 

       有SEMIAUTO/AUTO ALIGMENT,等自动化机型和功能可供选择

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