CHINAPONY中普尼匀胶机CPN-KW-4A型号简述：（小面积基片标准涂覆范围）_半自动匀胶机_涂胶设备_半导体加工设备_设备馆

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匀胶机CPN-KW-4A型号简述：（小面积基片标准涂覆范围） 品质出众精湛工艺

1，中普尼^TM(CHINAPONY^TM)匀胶机CPN-KW-4A型号为中普尼^TM(CHINAPONY^TM)公司CPN-KW系列最早推出的基础型号匀胶机。其轻触旋钮控制，控制轻松方便，特点是双转速匀胶机，两档转速及其匀胶时间分别连续调节，在启动后先低速运转，经几秒钟后自动转换到高速运转，也可单独使用低转速或者高转速，其优点是转速稳定和启动迅速，并能保证半导体材料中涂胶厚度的一致性和均匀性，其参数如下：

Ⅰ档调速范围：500 - 2500 RPM Ⅰ档匀胶时间：2-18 s

Ⅱ档调速范围：1000-8000 RPM Ⅱ档匀胶时间：3-60 s

2，(1) LED数字显示、直观性强，转速调节以数字显示为准.

（2）转速稳定度：±1% ，胶的均匀性：±3% .

3，电源电压：100V /60Hz 或110V /60Hz 或220V/ 50Hz

4，真空泵抽气速率70L/min

5，仪器尺寸：210*220*160mm 重量：8KG

6，适合：￠1-￠102mm（4”及4”以下）硅片及其它化合物等材料薄膜. （备有各种规格真空吸盘选购或者免费特殊订制真空吸盘）

人性化设计与功能：外形设计优雅，融合现在实验设计理念，尽显现在实验高科技气质。

DIY式工作腔体由特制进口实心不锈钢盛胶盘和特制进口实心透明钢化玻璃保护盖组成。

盛胶盘：由进口实心不锈钢采用一次性整体拉伸设计技术压缩成型，因此无瑕疵、无缝隙、无死角、无痕、光滑、整齐对称、美观；其表面全部经过CHINAPONY公司科技部微细工艺特殊处理，具有防污、防尘、防腐、易清洗等优点；同时其底面周边缘向里呈弧形并根据人性化设计理念使其稍向下纵深，使其不仅方便移动、拆卸，更方便光刻胶等胶液的回收与清洗，给您一个真正纯净的实验空间。

保护盖：采用进口实心透明钢化玻璃一次性压缩制造加工成形，具有牢靠、耐用、美观等优点，不仅方便工作人员直接观察涂敷工作过程同时保证工作环境的卫生与洁净。

真空吸盘采用高品质材质经过整体高精度深度工艺加工而成，具有耐摔、易用、重量轻等优点，可以轻松地承载起实验基片，能更好的随匀胶机旋转涂敷基片，使基片所涂敷薄膜更均匀。