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    LHQ-200型PECVD淀积系统 Leuven鲁汶仪器(中国北京)

    应用于半导体行业:

    半导体加工设备-镀膜设备-PECVD

    产品品牌

    Leuven

    规格型号:

    LHQ-200A型PECVD淀积系统

    库       存:

    100

    产       地:

    中国-北京市

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    面议
    交易保障 担保交易 网银支付

    品牌:Leuven

    型号:LHQ-200A型PECVD淀积系统

    所属系列:半导体加工设备-镀膜设备-PECVD


    LHQ-200型PECVD淀积系统 Leuven鲁汶仪器(中国北京)

    产品展示薄膜镀膜

     

    LHQ-200A型PECVD淀积系统

     

     

    系统简介

    l具有平行板电极结构,可进行8英寸片薄膜生长的单腔室设备。

    l能淀积SiO2,SiN以及本征α-Si等薄膜。

    l适用于半导体器件和IC制备中钝化膜的淀积。

    l采用带触摸屏的集成工控机自动控制工艺流程,可靠性高,工艺重复性好,经久耐用。

    l用户可自设定和记录多种实验程序,操作简单、效率高。

    l可广泛地用于微电子、光电子、太阳电池、半导体器件和传感器等领域。

    机器性能

    1、可以在200℃~300℃下淀积SiN、SiO2和不掺杂的非晶硅等薄膜;

    2、均匀性:≤±5%;

    3、淀积速率: SiO2≥30nm/min (采用Ar稀释的5%安全浓度的SiH4)。

    标准配置

    1、阳极氧化铝反应腔室;

    2、载片台(下电极)可放最大样片尺寸:8"圆片或152mm×152mm的方片。样片温度在200~350℃可调;

    3、5路进气,5个数字式质量流量计控制流量,可定制增减;

    4、射频电源,带自动匹配器;

    5、分子泵机组抽本底真空,机械泵抽淀积时的反应气体;

    6、工艺过程由带触摸屏的集成工控计算机控制。工艺条件可预设定;

    7、有严格的捡漏、互锁、报警和强排风等防毒、防爆的安全措施。

    关于我们

     

    江苏鲁汶仪器有限公司是由比利时鲁汶仪器、中科院微电子研究所等共同注资成立。公司总部位于江苏省邳州市,在比利时设有研发中心及销售部,在北京和俄罗斯设有销售部。公司秉承“以创新为主导,客户信赖为第一”的宗旨,倡导精益求精的工匠精神,为客户提供性能卓越的半导体研发、生产、材料检测等精密设备及配套技术服务。

    公司旨在研发与生产大学实验室、研究所及半导体生产线所需仪器设备,瞄准定制化市场。主要产品有薄膜材料纳米孔径分析仪、高端平台刻蚀机、等离子体刻蚀系列设备、化学气相沉积系列设备、溅射薄膜镀膜系列设备、原子层镀膜系列设备、湿法清洗刻蚀系列设备等,公司拥有自主专利技术,核心产品技术国际领先。

    公司坚持以人为本,技术团队囊括诺贝尔奖获得者、两名“千人计划”专家,多名国内外半导体领域知名教授及高校科研院所的年轻技术骨干。国际一流的人才团队为公司保持技术领先、实现创新驱动打下了坚实的基础。

    公司致力于成为全球一流的半导体设备供应商,愿与客户、供应商、业界同仁及投资者共同开拓和缔造半导体设备领域的广阔未来!

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    提问:
     

    你们这个是平板式双反应室的吗?有多少个质量流量计?

    dssj  2017-07-13

     这个设备可以带load-lock传输腔室,也可以是手动开腔。商城上传的是带有load-lock的机型。流量计数量根据工艺要求定制,淀积常规的硅材料,不做掺杂,通常是6~7路气体。带有自动干法清洗。
    可以留个联系方式,具体事宜可以面谈。

    2017-07-20

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