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在IC制造过程中大约有40%的工艺都与清洗、蚀刻相关，这种设备的性能、可靠性、产品的质量会直接影响到硅电路是否存在污染物，晶圆表面的颗粒杂质。
该系列的清洗设备是可实现全自动、半自动、手动的控制，可用于
- RCA clean
- Standard clean 1 (SC 1清洗)
- Standard clean 2 (SC 2清洗)
- HF 最端清洗
- 有效的光阻、残留物的去除及剥离
- Si或者硅的化合物的刻蚀
- 超声/兆声去除颗粒的工艺制程设备
等清洗、蚀刻工艺
设备可满足2’’-12’’晶圆的清洗、蚀刻，设备所用材料要能达到清洗工艺中的耐腐蚀及洁净度的要求， 可以达到“超洁净”的测定 所供设备和材料的设计、选购、制造、检验和测试均按照相关国家、半导体行业标准（SEMI-S2-93）执行，ISO9001质量管理体系进行规范和保证有机溶剂。
| SPMC的生产车间宽敞，布局合理，有1600平米加工制造车间、高精度的CNC加工中心、大尺寸雕刻机；200平米千级和万级的洁净室；配备洁净空气、氮气及去离子水；208伏和308伏的三相电压；配套了先进的进口焊接、剪裁、测试及装配工具。 |
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| 硅密（常州）电子设备有限公司 |
| 常州新北区电子产业园新科路21号 |
