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    G-31型精密光刻机 四川G-31型精密光刻机

    产品品牌

    鑫南光

    库       存:

    100

    产       地:

    中国-四川省

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    面议
    交易保障 担保交易 网银支付

    品牌:鑫南光

    型号:

    所属系列:半导体加工设备-光刻设备-双面光刻机

    G-31型精密光刻机操作程序的简要说明:

    一、主要用途

    主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件、薄膜电路、电力电子器件的研制和生产。

    二、工作方式

    本机采用版—版对准双面同时曝光

    三、主要构成

    主要由高精度特制的翻版机构、双视场CCD显微显示系统、二台多点光源式曝光头、真空管路系统、气路系统、直联式真空泵、防震工作台等组成。

    四、主要功能特点

    1.适用范围广

    适用于φ100mm以下,厚度5mm以下的各种基片的对准曝光。

    2.结构先进

    该机为双面接触式光刻机,特制的翻版机构,能消除基片楔形误差,保证上、下二块掩膜版对基片上、下两面良好的接触,从而保证基片上、下两面的曝光质量。

    3.操作简便

    采用手动方式;特制的翻版机构

    4.可靠性高

    采用进口电磁阀、按钮、定时器;真空管路系统和精密的零件加工,使本机具有非常高的可靠性。

    五、主要技术指标

    1、曝光类型:单面对准双面曝光

    2、曝光面积:≥φ100mm

    3、曝光不均匀性:≤±4%

    4、曝光强度:≥5mw/cm2

    5、曝光分辨率:≤2μm

    6、曝光模式:双面同时曝光

    7、对准精度:上版与下版的对准精度≤5μm

    8、对准范围:X:±5mm Y:±5mm

    9、旋转范围:Q向旋转调节≥±5°

    10、显微系统:双视场CCD系统,物镜0.7X~4.5X,计算机图像处理系统,19″液晶监视器;

    11、掩模版尺寸:3″×3″、4″×4″、5″×5″

    12、基片尺寸:φ2″、φ3″、φ4″

    13、基片厚度:≤5 mm

    14、曝光灯功率:直流2×350W

    15、曝光定时:0~999.9秒可调

    16、电源:单相AC 220V 50Hz功耗≤1kW

    17、洁净压缩空气压力:≥0.4Mpa

    18、真空度:-0.07Mpa~-0.09Mpa

    19、尺寸:900×700×1500 (L×W×H)mm;

    20、重量:~150kg

     

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