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JKG-2A型 光刻机 上海学泽光学机械有限公司 设备商城
本机是制造中、大规模集成电路，传感器，表面波元件，磁泡，微波和CCD等器件的重要光刻设备。
主要技术参数
| 1、适用的掩模尺寸： | |
| （1）100*100*2-3mm （2）75*75*2-3mm （3）63*63*2-3（选购） | |
| 2、适用的硅片尺寸： | ф35-ф75mm |
| 3、光刻图形线条： | 3~4чm，最细可达2чm |
| 4、掩模与硅片之间的相对位移范围： | X/Y±2.5mm，（旋转）±6° |
| 5、承片台（硅片）绕主轴旋转： | 粗调360度，可微调 |
| 6、承片工作台综合移动范围： | X,Y合成ф75mm |
| 7、承片台的球座平面至掩模板面升降： | 0-7.5mm |
| 8、曝光灯源：GCQ200W超高压汞灯，曝光波长： | 300-436nm |
| 9、曝光系统能量不低于： | 7mw |
| 10、曝光系统的照度均匀度在φ75mm范围内： | ±5% |
| 11、显微镜的照明波长： | ≈545nm |
| 12、曝光时间控制范围： | 0.1秒~99分 |
| 13、双目显微镜的放大倍数： | |
| （1）目镜共二种：10X,16X （2）平视场物镜共三种：6X,9X,15X （3）合成放大倍率：60X-240X | |
| 14、真空接触压力： | ≥0.7kgf |
| 15、装箱尺寸： | 1000*850*980mm（2只） |
| 16、装箱重量： | 200kg |
