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    1200℃高真空CVD系统(双温区) 西尼特

    应用于半导体行业:

    半导体加工设备-镀膜设备-热蒸发

    产品品牌

    西尼特

    库       存:

    100

    产       地:

    中国-北京市

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    面议
    交易保障 担保交易 网银支付

    品牌:西尼特

    型号:

    所属系列:半导体加工设备-镀膜设备-热蒸发

    CNT高真空CVD系统是一款专业在沉底材料上生长高质量石墨烯、碳纳米管、碳化硅的专用设备,广泛应用于在半导体、纳米材料、碳纤维、碳化硅、镀膜等新材料新工艺领域。

    高真空CVD系统主要由高温腔体、石英管、石英支架、气路系统、分子泵机组、自动化控制系统、冷却系统等组成。

    1、沉底材料可采用铜箔、石墨等;

    2、生长腔体采用进口高纯石英管,配石英支架、为石墨烯等材料的生长提供洁净环境;

    3、加热腔体采用进口陶瓷纤维加热器,均温区650mm、对开式结构;

    4、密封法兰均采用不锈钢材质,配水冷套,可连续长时间工作;

    5、气路系统采用三路质量流量计(可拓展多路),配预混系统;

    6、真空系统采用分子泵机组;

    7、控制系统采用10寸触摸屏加西门子PLC模块;

    8、可选配RF射频电源模块;

    9、气体种类: He/Ar、C2H2、NH3、N2, H2、PH3、GeH4、B2H6

    10、温度、气体、真空、冷却水等通过PLC控制,通过PC实时控制和显示相关的实验参数,自动保存实验参数,也可采用手动控制.

    11、系统采用集成化设计,控制系统、混气罐、质量流量计等均内置在箱体内部,占地面积小。整体安装四个可移动轮子,方便整体移动。

    技术参数:

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