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分子束外延系统 (MBE system)
工作原理：
通过不同的能量源提供高能量给靶材（如蒸镀源，RF等离子源，电子束蒸发源，臭氧传送系统等）。靶材会被加热和蒸发。被蒸发的材料会沈积在衬地上形成薄膜。由于 MBE在超高真空（UHV）（10-9 torr）进行，沉积速率可以放慢，使得薄膜可外延生长。
特点：
- 多种沉积源和测量工具的选择
- 多个沉积源
- 超高真空环境（-10torr基准压力）
- 6个可旋转的 PLD靶
- 全计算机控制与数据记录
- 先进的原位样品温度和膜厚监控
- 定制的组合泵
应用范围：
- III - V、II - VI、II -氧化物、III - 氮化物，硅、锗、金属、电介质及其它材料
- 半导体
- 光电子学
- 光伏
- 磁应用
