网站首页

|EN

当前位置: 首页 » 设备馆 » 半导体测试设备 » 测厚设备 » 其他 »NanoCalc 反射膜厚测量系统
    包邮 关注:440

    NanoCalc 反射膜厚测量系统

    应用于半导体行业:

    半导体测试设备-测厚设备-其他

    库       存:

    100

    产       地:

    中国-北京市

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    面议
    交易保障 担保交易 网银支付

    品牌:

    型号:

    所属系列:半导体测试设备-测厚设备-其他

    NanoCalc 反射膜厚测量系统

    膜厚测量 薄膜的光学特性主要有反射和干涉。NanoCalc薄膜反射测量系统可以用来进行10nm -250um的膜厚分析测量,对单层膜的分辨率为0.1nm。根据测量软件的不同,在1秒钟内可以分析单层或最多达到10层的膜厚。

     

    产品特点

    • 可分析单层或多层薄膜;
    • 分辨率达0.1nm;
    • 适合于在线监测;

    使用原理

    最常用的两种测量薄膜的特性的方法为光学反射和投射测量、椭圆光度法测量。NanoCalc利用反射原理,通过测量宽光谱范围内的反射率曲线来进行膜厚测量。

    查找n和k值

    可以进行多达十层的薄膜测量,薄膜和基体材质可以是金属、电介质、无定形材料或硅晶等。NanoCalc软件包含了大多数材料的n和k值数据库,用户也可以自己添加和编辑。

     

      膜厚测量

    应用

    NanoCalc薄膜反射材料系统适合于在线膜厚测量,包括氧化层、中氮化硅薄膜、感光胶片及其它类型的薄膜。NanoCalc也可测量在钢、铝、铜、陶瓷、塑料等物质上的抗反射涂层、抗磨涂层等。

    NanoCalc Systems Available

    NANOCALC-2000-UV-VIS-NIR

    Wavelength:

    250-1100 nm

    Thickness:

    10 nm-70 um

    Light source:

    Deuterium and Tungsten Halogen

     

    NANOCALC-2000-UV-VIS

    Wavelength:

    250-850 nm

    Thickness:

    10 nm-20 um

    Light source:

    Deuterium and Tungsten Halogen

     

    NANOCALC-2000-VIS-NIR

    Wavelength:

    400-1100 nm

    Thickness:

    20 nm-10 um (optional 1 um-250 um)

    Light source:

    Tungsten Halogen

     

    NANOCALC-2000-VIS

    Wavelength:

    400-850 nm

    Thickness:

    50 nm-20 um

    Light source:

    Tungsten Halogen

     

    NANOCALC-2000-NIR

    Wavelength:

    650-1100 nm

    Thickness:

    70 nm-70 um

    Light source:

    Tungsten Halogen

     

    NANOCALC-2000-NIR-HR

    Wavelength:

    650-1100 nm

    Thickness:

    70 nm-70 um

    Light source:

    Tungsten Halogen

     

    NANOCALC-2000-512-NIR

    Wavelength:

    900-1700 nm

    Thickness:

    50 nm-200 um

    Light source:

    High-power Tungsten Halogen

    For Reflectometry applications, the following items are required:

    NC-2UV-VIS100-2

    Bifurcated UV fiber
    400 um x 2m
    2x SMA connectors
    Flexible metal jacketing

    NC-STATE

    Single point reflection measurement for non transparent samples

    Step-Wafer 5 Steps 0-500 mm, calibrated 4"

    If using a microscope, the following items are also needed:

    NC-7UV-VIS200-2

    Reflection probe for application microscopy with MFA-C-Mount

    Step-Wafer 5 Steps 0-500 mm, calibrated 4"

     

    NanoCalc Specifications

    Angle of incidence:

    90°

    Number of layers:

    3 or fewer

    Reference measurement needed:

    Yes (bare substrate)

    Transparent materials:

    Yes

    Transmission mode:

    Yes

    Rough materials:

    Yes

    Measurement speed:

    100 milliseconds to 1 second

    On-line possibilities:

    Yes

    Mechanical tolerance (height):

    With new reference or collimation (74-UV)

    Mechanical tolerance (angle):

    Yes, with new reference

    Microspot option:

    Yes, with microscope

    Vision option:

    Yes, with microscope

    Mapping option:

    6" and 12" XYZ mapping tables

    Vacuum possibilities:

    Yes

    咨询

    购买之前,如有问题,请向我们咨询

    提问:
     

    应用于半导体行业的相关同类产品:

    服务热线

    4001027270

    功能和特性

    价格和优惠

    微信公众号