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    第二代电介质刻蚀设备 Primo AD-RIE

    应用于半导体行业:

    半导体加工设备-刻蚀设备

    产品品牌

    中微

    库       存:

    10000

    产       地:

    中国-上海市

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    面议
    交易保障 担保交易 网银支付

    品牌:中微

    型号:

    所属系列:半导体加工设备-刻蚀设备

     

    Primo AD-RIE™是中微公司用于流程前端(FEOL)及后端(BEOL)关键刻蚀应用的第二代电介质刻蚀设备,主要用于22纳米及以下的芯片刻蚀加工。基于前一代产品Primo D-RIE刻蚀设备已被业界认可的性能和良好的运行记录,Primo AD-RIE做了进一步的改进:采用了具有自主知识产权的可切换低频的射频设计,优化了上电极气流分布及下电极温度调控的设计。

    Primo AD-RIE已经成功通过了3000片晶片马拉松测试。除已证实其具备更优越的重复性及稳定性以外,该产品还可将晶片上关键尺寸均匀度控制在2纳米内。

    系统特点及技术优势

    2-13.5兆赫兹可切换射频发生器在多膜层结构的刻蚀能改善工艺水平

    独特的射频输入和对称分布改善等离子密度的均匀分布

    三区气体分布为刻蚀速度的均匀度提高有效的可调性

    静电吸盘双区冷却装置提高晶片温度可调性,极大改善晶圆片刻蚀均匀度

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    yesi  2023-05-12

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