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功能概述
该系统为通用双离子束薄膜沉积系统，可用于溅射沉积各种金属、合金、化合物及半导体材料的单层薄膜、多层薄膜，也可将单质材料通过反应合成氧化物、氮化物、碳化物薄膜。
工作模式
衬底表面离子束溅射清洗（IBSC）
衬底表面离子束终极抛光（IBP）
离子束溅射沉积（IBSD）薄膜
离子束辅助—离子束溅射沉积（IBA-IBSD）薄膜
离子束辅助—离子束溅射沉积合成（IBA-IBSDS）化合物薄膜
IBSD-Lift-off薄膜
应用领域
适用于各种力、热、声、光、电、磁等新型材料与器件的科学研究与批量生产，尤其在制造纳米薄膜器件领域具有独特的技术优势。
最宽范围材料适用性
与其它常规CVD、PVD镀膜技术相比，离子束溅射镀膜具有对薄膜材料最普遍的适用性，可溅射沉积的薄膜种类包括金属、非金属、合金、化合物和其它任何固体材料。
