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光刻胶
纳米压印胶
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品牌 Micro Resist
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       德国Micro Resist公司创立于1993年，主要生产各种高性能的用于维纳制作的光刻胶；用于i、g和h线的光刻胶；电子束刻蚀胶；纳米压印胶以及专门用于光学波导制作的光刻胶。
光刻胶
正胶 负胶
ma-P 1200系列  ma-N 400系列  ma-N 1400系列  ma-N 2400系列      EpoCore            EpoClad
纳米压印胶
mr-I 7000E系列 mr-I 8000E系列 mr-I PMMA系列 mr-I T85系列 mr-I 9000E系列 mr-NIL 6000E系列
辅助化学品
显影液 去胶液
ma-D332S ma-D332 mr-Dev600 mr-Rem 660
非光刻图层
ORMOCER®无机-有机杂交聚合物 保护层
Ormocomp Ormoclad Ormocore mr-PL 40
联系方式
公司:陕西思的信息资讯有限公司
状态:离线 发送信件 在线交谈
姓名:弓(女士)
电话:400 008 6682
手机:15991343504
传真:029-8824 6406
地区:中国
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