详细描述：用于磨抛机的纯化学抛光过程，抛光液本身具有强腐蚀性，所以可以大幅提高抛光效率。多用来提高晶圆样品的抛光后的粗糙度指标。可以用来抛光CZT，GaAs等晶圆产品。

       产品特点：
    1.单晶金刚石抛光液具有良好的切削力，适用于超硬材料的研磨抛光。
    2.多晶金刚石抛光液有良好的韧性，在研磨抛光过程中能够保持高磨削力的同时不易产生划伤。适用于光学晶体、陶瓷、超硬合金等各种硬质材料的研磨和抛 光。
    3.纳米抛光液能达到超精密的抛光效果，分散稳定性，长时间不沉淀，不团聚。广泛用于硬质材料的超精密抛光过程，可使被抛表面粗糙度低于0.2nm。

 使用方法：

1.请使用前先摇匀；

2.在使用时，可用少量的水加以稀释。

  储存方法：

1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃

2.低于0℃以上储存，防止结冰，在零度以下因产生不可再分散结块而失效。

3.避免敞口长期与空气接触。

   安全处置：

1.车间内必须保持良好的通风状况。

2.避免放置在儿童能接触到的地方。如与眼睛或皮肤接触，请用大量清水冲洗。

3.在使用时请勿进食或吸烟。

4.使用前可参阅安全技术说明书。

   包裝方式： 4L塑料桶包装(也可依客户需求)

   保存条件：温度范围=5°C~35°C ，湿度范围<=70%

   危险特征：产品本身没有刺激性，对人体无害。

   废弃物处理：切勿将废弃抛光剂排放入下水道、水体或土壤，废置抛光液应符合当地环保标准来处理。