离子源类型

特征

应用

选项

Plasma Source等离子体源1:

NANO-MASTER

淋浴头等离子体源SH-1000

• 射频淋浴头等离子体源
• 气体通过射频板
• 二级板将其他气体引入等离子体
• 水冷却
• 最大600瓦
• 可在0.02托至8托之间操作
• 8英寸有效区域
• ISO 250法兰

Plasma Source等离子体源2:

空心阴极13.56 MHz射频等离子体源

• 支持扩展功率和气压范围操作
• 高浓度高活性高均匀性等离子体（1011 cm^-3）
• 兼容化学反应和非化学反应气体
• 等幅波和脉冲电源
• 低污染

• 等离子增强化学气相沉积
• 等离子聚合
• 等离子清洁
• 等离子刻蚀
• 表面改性

• 600mm线性等离子源
• 900mm线性等离子源

Plasma Source等离子体源3:

SLAN（SLot ANtenna）2.45 GHz微波等离子体源

• 高浓度等离子体
• 压力范围在10^-5毫巴到大气压
• 兼容化学反应和非化学反应气体
• 低污染
• 电子回旋共振(ECR)或非电子回旋共振(non-ECR)操作
• 等幅波和脉冲电源

• 等离子增强化学气相沉积
• 等离子聚合
• 等离子清洁
• 等离子刻蚀
• 表面改性
• 材料科学

• 直径4厘米
• 直径16厘米
• 直径67厘米

Plasma Source等离子体源4:

电感耦合等离子体源ICP-P 200（13.56MHz）

• 200毫米直径的平面线圈
• 扩展功率范围在3-1200瓦
• 低能量扩散
• 高浓度高活性等离子体
• 低污染
• 等幅波和脉冲电源

• 等离子增强化学气相沉积
• 等离子聚合
• 等离子清洁
• 等离子刻蚀
• 表面改性