晶片—衬底类
半导体晶圆/衬底 铟砷衬底 磷化铟衬底 锑化镓衬底
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单价 10.00
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  • 较高的电子迁移率和迁移率比值(μe/μh=70),是制造霍尔器件的理想材料。

  • 可匹配GaAsSbInAsPSbInAsSb多元外延材料做MBE生长。

  • 液封直拉法(CZ),保证了材料的纯度可以达到99.9999%(6N)。

  • 所有基片都经过精密抛光并充保护气氛保护,满足Epi-Ready使用要求。

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