业界知名的曝光机制造商ABM, Inc. 为半导体制造和科研领域提供品质优良稳定的全波段紫外光刻机系统，被广泛的应用于半导体光刻工艺制程，光波导，光栅，微机电MEMS，LD,二极管芯片，发光二极体（LED）芯片制造，显示面板LCD，光电器件，奈米压印以及电子封装等诸多领域。ABM曝光机在全球知名的大学，研发中心，产学研结合单位以及大批量生产之工厂均拥有广泛应用的客户群体。
美国ABM, Inc. 成立于1986年，总部位于加州矽谷，至今服务于半导体业内超过25年。 ABM, Inc，除美国总公司外，旗下全球分支之ABM, Inc. Asia Pacific Ltd.更在香港设立直接销售及工艺研发中心并配有class100之超净实验室，旨在更好地直接对话并提供更专业的售前/后技术服务于中国大陆地区的广大客户。

高精度紫外单面光刻机
高精度紫外双面光刻机
高精度曝光光源
以上机型均可以根据需要选择手动，半自动，全自动三种机型
本公司也可以实现大尺寸曝光光源12英寸-26英寸的机型，如有需要欢迎联系我们：

联系人：孙先生  13916786084  jack@abmasia.com.hk