德国Raith EBPG5150 电子束光刻机_电子束曝光机_光刻设备_半导体加工设备_设备馆

德国Raith EBPG5150 电子束光刻机

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德国Raith EBPG5150 电子束光刻机

详细介绍

EBPG5150使用了155mm大小的样品台，采用跟EBPG5200一样的通用光刻平台设计，对电子束直写应用进行了优化。它可以载入不同大小的样品,包括多片散片以及完整的硅片。

00001. 高束流密度，热场发射电子枪可以在20、50和100kV之间切换

00002. 155mm的平台

00003. 最小曝光特征尺寸小于8nm

00004. 高速度曝光，可采用50或100MHz的图形发生器

00005. 在所有KVs加速电压下，可连续改变的写场大小，最大可以到1mm

00006. GUI人机交互界面友好，简洁易用，适用于多用户环境

00007. 多项灵活可选择的配置，可以适用于不同应用的需求

可选的系统增强升级

EBPG5150可以选择不同的升级选项，以满足用户不同的技术和预算需求。让全世界的高校等研究类用户也可以使用这款非常先进、高自动化的电子束光刻系统。

· 电子束曝光用于制作GaAs T型器件

· 微盘谐振器

· 开口环谐振器

主要应用：

· 100KV高加速电压可用于曝光高深宽比纳米结构

· 高速电子束直写

· 批量生产，如化合物半导体器件

· 防伪标识

电子光学柱技术：

· EBPG

· 电子束

· 100 kV

样品台：

· 覆盖完整6英寸硅片大小

· 标配2工位自动化上料
(10工位可选)

联系方式