URE-2000S/A型紫外光刻机-双面

主要技术指标：

曝光面积：150mm×150mm

分辨力：1μm（胶厚1.5 μm的正胶）

对准精度：±3μm（双面）

最大胶厚：500μm（SU8胶）

掩模尺寸:3inch、4 inch、5 inch、7 inch

样片尺寸：直径Ф30mm--Ф150mm 厚度0.1mm--6mm(可扩展为15mm)

照明均匀性：±3.5%Ф100mm) ±5.5%(Ф150mm)

汞灯功率：1000W（直流）

掩模相对于样片运动行程：X: ±5mm; Y: ±5mm; θ: ±6°

技术特点：

该机采用国内首创的CCD图像底面对准技术，单曝光头正面曝光实现双面对准的总体设计技术。采用新颖的高精度、多自由度掩模—样片精

密对准工件台结构设计，掩模—样片对准过程直观，套刻对准速度快、精度高。掩模板与样片的放置采用推拉式基准平板、真空吸附式，操作方便。