样品台尺寸：4英寸向下兼容，可扩展至6英寸、8英寸、12英寸。
工艺模式：反应离。
刻蚀材料：si / sin / sio2 / poly-s i / w / wsi /Mo /Ta / 磷硅玻璃 /石英/光刻胶 等。
射频电源：Power 功率5000w，Frequency 频率13.56MHz （可根据用户实际需求定制化制造）。
非均匀性：4英寸样片小于±5%。
气路系统：标配4路气体，可根据用户实际需求定制化。
真空系统：Tmp & mechanicd pump 分子泵机组，本底真空优于5×10 Pa。
载片台冷却：水冷，He背冷可选。
操作模式：菜单自动/手动模式。
人机界面：windows环境、触摸屏操作。