1.气体种类：O2、CF4、CHF3、SF6、BCl3等
2.基片尺寸：zui大支持8英寸，并向下兼容6、5、4、3、2英寸等以及破片
3.射频电源 ICP电源：13.56MHz，1400W; 偏压电源：13.56MHz，800W
4.工艺温度：10℃到80℃可控
5.传送模式：自动Loadlock传送系统
ICP等离子刻蚀机 干法等离子刻蚀设备
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| 单价 | ￥450000.00 |
| 库存 | 5台 |
| 品牌 | 超迈光电 |
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反应离子刻蚀机主要用于介质薄膜干法刻蚀，包括SiO2、Si3N4、SiON、SiC等。
1.气体种类：O2、CF4、CHF3、SF6、BCl3等
1.气体种类：O2、CF4、CHF3、SF6、BCl3等
联系方式
公司:成都超迈光电科技有限公司
状态:离线 发送信件 在线交谈
姓名:张先生(先生)
职位:运营经理
电话:13908175536
手机:13908175536
地区:中国-四川省
地址:四川省成都市经济技术开发区（龙泉驿）车城西二路288号
微信:13908175536
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