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BG-406系列曝光机（单双面光刻机）
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SB-402曝光机（双面光刻机）
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俄罗斯 Optosystem准分子激光器CL7000
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美Coherent ExciStarXS准分子激光器
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美国Photonics可调谐激光器OPO系列
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英Oxford 等离子体增强化学气相沉积系统System 100
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美国nanoArch M160科研级微纳3D打印系统
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德国 ENTECH RIE SI591 平板电容式反应离子刻蚀机
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德国Sentech ICP-RIE SI 500 电感耦合等离子刻蚀机
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Sentech ICP-RIE SI 500超高密度等离子刻蚀机
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日本Certas Leaga 化学气体高效刻蚀系统
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