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Cassion Technology Development Limited
Primaxx® HF 释放蚀刻、Plasma Etch、 Xactix® XeF2 干法释放蚀刻、金属沉积、PE...
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公司名称:
Cassion Technology Development Limited
公司类型:
个体经营 ()
所 在 地:
中国/香港
公司规模:
注册资本:
未填写
注册年份:
2011
资料认证:
经营范围:
Primaxx® HF 释放蚀刻、Plasma Etch、 Xactix® XeF2 干法释放蚀刻、金属沉积、PECVD
主营行业:
半导体加工设备
半导体加工设备耗材
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