Cassion Technology Development Limited

Primaxx® HF 释放蚀刻、Plasma Etch、 Xactix® XeF2 干法释放蚀刻、金属沉积、PE...

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公司档案
公司名称:   Cassion Technology Development Limited 公司类型: 个体经营 ()
所 在 地: 中国/香港 公司规模:
注册资本: 未填写 注册年份: 2011
资料认证:   
经营范围: Primaxx® HF 释放蚀刻、Plasma Etch、 Xactix® XeF2 干法释放蚀刻、金属沉积、PECVD
主营行业:
半导体加工设备 半导体加工设备耗材
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