溅射靶材产品 金属靶材
溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面。
溅射靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;亦可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。
根据形状可分为长靶，方靶，圆靶，异型靶
根据成份可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材
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材料及符号
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纯度
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规格
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纯金靶(Au)
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3N,4N,5N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶
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纯银靶(Ag)
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4N,5N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶
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纯铜靶（Cu）
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3N,3N7,4N,5N,6N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶，管状靶
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纯铝靶(Al)
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4N,4N5,5N,6N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶，管状靶
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纯硅靶(Si)
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4N,5N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶
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纯钛靶(Ti)
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2N7,3N,4N,4N5
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平面靶，圆柱靶，台阶靶，管状靶
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纯钨靶(W)
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3N,3N5,4N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶
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纯铬靶（Cr）
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2N5,2N8,3N,3N5
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平面靶，圆柱靶，台阶靶，管状靶
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纯钼靶(Mo)
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3N5
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平面靶，圆柱靶，台阶靶
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纯镍靶(Ni)
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3N,4N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶
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纯锗靶(Ge)
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4N,5N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶
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纯铕靶(Eu)
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2N5,3N,4N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶
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纯铈靶(Ce)
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2N5,3N,3N5
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平面靶，圆柱靶，台阶靶
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纯镉靶(Cd)
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4N,5N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶
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纯硼靶(B)
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3N,4N,5N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶
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纯钒靶(V)
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3N,4N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶
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纯钕靶(Nd)
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2N5,3N,3N5
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平面靶，圆柱靶，台阶靶
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纯镁(Mg)
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4N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶
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纯铂靶(Pt)
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3N,4N,5N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶
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纯硒靶(Se)
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3N5,4N,5N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶
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纯铟靶(In)
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4N,5N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶
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纯锌靶(Zn)
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4N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶
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石墨靶(C)
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4N,5N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶
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纯锑靶(Sb)
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4N,5N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶
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纯锡靶(Sn)
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4N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶
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纯碲靶(Te)
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4N,5N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶
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纯钽靶(Ta)
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3N5
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平面靶，圆柱靶，台阶靶
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纯镧靶(La)
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2N5,3N,3N5
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平面靶，圆柱靶，台阶靶
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纯铌靶(Nb)
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3N,3N5
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平面靶，圆柱靶，台阶靶
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纯锆靶(Zr)
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2N5,2N8,3N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶
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纯钯靶(Pd)
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4N,5N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶
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纯铼靶(Re)
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3N,4N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶
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纯锰靶(Mn)
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3N,4N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶
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纯钌靶(Ru)
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3N,4N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶
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