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    SiO2 / Si衬底上单层MoS2三角形

    应用于半导体行业:

    半导体原材料-晶片—衬底类-硅衬底

    库       存:

    10

    产       地:

    全国

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    面议
    交易保障 担保交易 网银支付

    客服电话:4001027270

    品牌:

    型号:

    所属系列:半导体原材料-晶片—衬底类-硅衬底


    产品描述
    单层MoS2生长在SiO2 / Si衬底上。其中包含在SiO2 / Si衬底上随机分布的单层MoS2三角形薄片。虽然一些区域通过聚结MoS2三角形薄片能获得连续的薄膜,但用于高级光谱,显微和电子测量技术的则是独立的三角形薄片。合成的三角形单层MoS2薄片是高度发光的,拉曼光谱也证实了其单层特性。与生长在蓝宝石衬底上的MoS2三角形相比,该三角形单层MoS2晶体的发光更加明显。
    示例属性
    样品尺寸
    1cm x 1cm正方形
    衬底类型
    热氧化物(SiO2 / Si)衬底
    覆盖
    隔离和部分合并单层三角形
    性能
    1.85 eV直接带隙半导体
    结构
    六角相
    原胞参数
    a = b = 0.313nm,c = 1.230nm,α=β= 90°,γ= 120°
    生产方式
    常压化学气相沉积(APCVD)
    表征方法
    拉曼,光致发光,TEM,EDS
    规范
    · 识别。转移到SiO2 / Si衬底上的各自分离的MoS2单晶S。
    · 物理尺寸。一厘米大小。可根据要求提供高达2英寸的晶圆尺寸。
    · 平滑度。表面粗糙度<0.1-0.2nm。
    · 均匀性。高度均匀的表面形态。MoS2三角形分散在样品上。
    · 纯度。通过纳米SIMS测量确定纯度99.9995%。
    · 可靠性。可重复拉曼和光致发光响应。
    · 结晶度。高结晶质量,拉曼响应和与单晶单层薄片相当的光致发光。
    · 基质。SiO2 / Si衬底,但我们的研发团队可以将MoS2三角形转移到各种衬底上,包括PET和石英,而不会对材料质量造成重大影响。
    · 支持。我们提供全面的技术支持,并保证老客户满意。
    · 缺陷分布三角形单层MoS2晶体没有刻意的掺杂剂或缺陷。然而,我们的技术人员可以使用轰炸技术产生有缺陷的MoS2

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