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    高纯镍靶材 Ni靶镀膜溅射靶

    产品品牌

    HC

    规格型号:

    99.9%

    发货期限:

    4周天

    运费说明:

    顺丰:50.00  

    库       存:

    20

    产       地:

    中国-江苏省

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    2000.00
    交易保障 担保交易 网银支付

    客服电话:4001027270

    品牌:HC

    型号:99.9%

    所属系列:半导体加工设备耗材-镀膜设备耗材-镀源、靶材


    高纯镍靶,主要应用于半导体和微电子行业,是半导体背面电极的关键材料。通过反复的塑性加工镍颗粒具有高致密度,高纯度的特性,且晶粒组织大小均匀一致。生产过程的灵活适当调整颗粒的微观结构来达到你想要的效果,镍靶的晶粒大小均匀一致,可以获得均匀的膜层.

    产品主要应用于平板显示、触控面板、集成电路、LED芯片、Low-E玻璃、装饰镀膜、工具镀膜、光伏太阳能、光学光通信、光磁存储、电子封装、电动新能源等领域。

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