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牌号：FZ区熔高阻硅片
类型：元素半导体材料
材质：硅
用途：集成电路科研
外观：抛光
产地：中国
密度：2.33g/cm3
硬度：9-14Kg/mm2
晶向：100.110.111等
常用厚度：280um-1mm
导电类型：型、P型、本征半绝缘
工艺：可加工氧化氮化
等生长方式：直拉（CZ）、MCZ等
FZ区熔高阻硅片
芜湖恒枢科技加工、供应各种类型高阻硅片，以及苛刻要求的高质量硅片。
生长方式：区熔（FZ）、中子辐照区熔（NTDFZ）等；
尺寸：1”，2”， 3”，4”，5”，6”，8”，12”和特殊非标直径及异形硅片；
表面：单抛、双抛、研磨等；
晶向：<100>、<111>、<110>晶向及偏角度和特殊晶向；
厚度：超薄25um、50um、100um、200um等，常用厚度：280um-1mm；超厚：1mm、2mm、5mm等；
导电类型：非掺杂半绝缘；
电阻率：＞1Ω.cm，>1000Ω.cm，>3000Ω.cm， >5000Ω.cm， >10000Ω.cm，> 20000 Ω.cm；
用途：红外光学、太赫兹领域；整流器、场效应管、功率集成电路、射频、超高压二极管、传感器等；
工艺：可加工氧化、 氮化、镀金属膜（银Ag、金Au、铂Pt、铜Cu、钛Ti、镍Ni）；
供货能力：大量库存现货，种类齐全，当天发货！
加工能力：各种规格可加工，为客户量身定制！工期短！
