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    DFQ系列全自动单晶圆湿处理设备

    产品品牌

    第四十五研究所

    库       存:

    10

    产       地:

    中国-北京市

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    面议
    交易保障 担保交易 网银支付

    品牌:第四十五研究所

    型号:

    所属系列:半导体清洗设备-标准清洗-单片自动清洗机

     SFQ/SFQZ系列湿法设备广泛应用于集成电路、光电子器件、MEMS及分立器件、半导体材料加工、太阳能光伏等领域,用于各种半导体基片及类似材料制造过程中湿化学处理工艺,有手动、半自动及全自动三种配置。

    六大专有技术

    湿法清洗设备系统集成技术

    /液自动传输及控制技术

    材料与化学工程防护技术

    温度传递及精确控制技术

    晶片自动传输及自动控制技术

    溶液流场均匀性控制技术

    主要技术特点:

    系统结构:设计紧凑、洁净、防腐、安全、多种式样机架可供选择

    控制方式:采用高性能PLC或工控机实现集中控制,结合单元功能控制简化操作

    槽体配置:材料:NPPPVDFPTFE、石英、PVC、不锈钢等多种材料

    功能:恒温控制(加热/制冷)、循环、过滤、自动补液、抖动、旋转、超声/兆声、溢流、快排、鼓泡、干燥等

    定制设计:根据用户要求提供工艺配置及技术支持




    □    适应晶圆片尺寸:4"~8"
    □    传输方式:上片盒→浸泡腔体→腐蚀腔体→清洗干燥腔体→收片盒
    □    主轴旋转速度:200 ~ 5000rpm ±5rpm
    □    DI水兆声喷头:频率1MHz,功率75W
    □    溶液过滤精度:21μm  9μm  0.2μm(三级过滤)
    □    溶液喷射压力:500~3000PSI(增压)
    □    NMP和DI-WATER具有扇性喷射和柱状喷射模式
    □    溶液温度范围:常温~85℃,精度±2℃
    □    氮气过滤精度:0.003μm
    □    设备采用电脑程序控制,能设置并存储超百种工艺程序
    □    室内净化级别:100级
       

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