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    AST Peva-600E 电子束蒸渡机

    库       存:

    100

    产       地:

    中国-广东省

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    面议
    交易保障 担保交易 网银支付

    品牌:

    型号:

    所属系列:半导体二手设备-二手芯片制造前段设备

     应用 
    Peva-600E高精密Lift-Off电子束蒸镀系统乃是针对功率IC元件、砷化镓晶圆及次微米精密线宽要求的Lift-Off製程所设计的整批式量产设备,主要应用在Schottky、MMIC、Ohmic、Gate之金属化或ITO, SiO2制程,拥有独特的蒸镀反应室设计,可以提供更高的产能(增加150%),与更为精准、更可靠的制程需求。


    特点 
    AST聚昌科技Peva-600E系统的特点包括
    (1) 因应功率IC(Ti/Ni/Ag)及ⅢⅤ族砷化镓晶圆各种Lift-Off制程需求(Ti、Au、Al、Ni、Cr、AuGe等),将Throw Distance拉高至>26~32吋
    (2) Run to Run膜厚均匀性可控制至<±1%,以确保整体产品良率
    (3) 最佳化蒸镀腔及排气系统设计,可有效降低Cycle time,并提昇材料利用率(提高20%)
    (4) 特殊设计的夹治具,针对薄片制程(<100微米),可靠度极佳
    (5) 全自动化、智慧型PC操控系统,提高全厂自动化之需求。

    Peva-600E并可加装离子辅助镀膜(IAD)设备,进行低温制程,应用在Achromats、Fiber End Faces、Plastic Optics及MEMS wafers等精密镀膜,同时拥有可提昇至200mm大尺寸、次微米、均匀性±1%之Lift-Off制程能力、更有效的材料利用率、更高的产能与可靠度及整体地板空间使用率大幅缩减的种种优点。



    规格 

    Wafer Numbers / Sizes (108 -15) pcs / (2"- 6")for Planetary Domes 
    E-Beam Power From 6 ~10 kW (Option) 
    Ultimate Pressure < 1E-7 Torr 
    based Pressure 2E-6 Torr within 30 mins 
    Pumping System Cryopump + Rotary Vane Pump
    Dry pump (Option) 
    Automatic Control System Industrial HMI with Graphic User Interface
    Fully PC Interface Operation(Option) 
    Thickness/RateProcess Control RS-232 interfaced Real Time Controller including Sweeper, Indexer, Material, Tooling Factor, Soak, RampShutter. 
    Substrate Temperature Control RT ~ 350℃ 
    Non-Uniformity 5% for WIW, WTWRTR 
    Power Requirement AC220V, 3 phase, 60 Hz, 80A, 
    Dry N2 Requirement 1.2 kgw/cm2 
    CDA Requirement 5 kgw/cm2 
    Water Requirement 1.5 kgw/cm2, 20℃, 30 l/min 
    Dimension (WxDxH) 1100 x 1200 x 1800 (mm) 
    Weight 750 kgw 

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