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腐蚀工作台 适用于4英寸以下半导体硅片氧化前的清洗工艺
腐蚀工作台
1．本设备是3槽腐蚀工作台，适用于4英寸以下半导体硅片氧化前的清洗工艺。本设备采用RCA部分清洗工艺，采用国际标准生产加工，在超净厂房组装测试，有可靠的质量保障
2. 整机由机台、操作台面、清洗槽体、药液槽体、药液温度控制系统，排风、电气控制系统等组成。整机由PP板和PVC板焊接而成，美观、耐腐蚀。
3.腐蚀水域槽为不锈钢材料；腐蚀槽为石英材料(槽口部有法兰)，带盖；
4.加热方式：不锈钢内加热器，控温范围：室温－70℃，精度±1℃；
5.清洗槽为NPP材料，配有鹅颈水龙头。设有纯水管路、自来水管路及手动调节阀，下水自然放。
6.配置国际知名品牌喷淋枪一把、氮气枪一把；
7.排风通道:工作台后部、上部同时排风；
8.配有有机玻璃翻门，塑料推拉门，储物柜
