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    CSE-单片清洗机

    库       存:

    100

    产       地:

    全国

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    面议
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    CSE-单片清洗机

       

    CSE-单片清洗机

      

    单片式

       

    半导体、太阳能、液晶、MEMS

       

    2英寸——12英寸

    设备稳定性

    1、≥0.2um颗粒少于10

    2金属附着量:<3E10 atoms/ cm²

    3、纯水消耗量:1L/min/

    4蚀刻均一性良好(SiO氧化膜被稀释HF处理):≤2%

    5、干燥时间:≤20S

    6、药液回收率:>95%

    单片式优点

    1、单片处理时间短(相较于槽式清洗机)

    2、节约成本(药液循环利用,消耗量远低于槽式)

    3、良品率高

    4、有效避免边缘再附着

    5、立体层叠式结构,占地面积小

     


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