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    单晶圆兆声清洗机

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    100

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    全国

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    单晶圆兆声清洗机

    兆声晶圆清洗机:
    First-Nano 兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及先进的兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了专利的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。

    SWC-4000兆声晶圆清洗机应用:

    • 带图案或不带图案的掩模版和晶圆片
    • Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗
    • CMP处理后的晶圆片清洗
    • 晶圆框架上的切粒芯片清洗
    • 等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗
    • 带保护膜的分划版清洗
    • 掩模版空白部位或接触部位清洗
    • X射线及极紫外掩模版清洗
    • 光学镜头清洗
    • ITO涂覆的显示面板清洗
    • 兆声辅助的剥离工艺

    SWC-4000兆声晶圆清洗机的特点:

    • 支持12"直径的圆片或9"x9"方片
    • 独立系统
    • 无损兆声,试剂,毛刷清洗及旋转甩干
    • 微处理机自动控制
    • 化学试剂滴胶单元
    • 溶剂与酸分离排废
    • 热氮
    • 30"D x 26"W 的占地面积

    SWC-4000兆声晶圆清洗机选配项:

    • 掩模板或晶圆片夹具
    • 臭氧清洗
    • PVA软毛刷清洗
    • 高压DI清洗
    • 氮气离子发生器

     

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