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    高真空磁控溅射仪|多功能磁控溅射仪

    产品品牌

    鹏城半导体

    库       存:

    999

    产       地:

    中国-广东省

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    面议
    交易保障 担保交易 网银支付

    品牌:鹏城半导体

    型号:

    所属系列:半导体加工设备-镀膜设备-磁控溅射机

     多功能磁控溅射仪(高真空磁控溅射仪)是用磁控溅射的方法,制备金属、合金、化合物、半导体、陶瓷、介质复合膜及其它化学反应膜等;适用于镀制各种单层膜、多层膜、掺杂膜系及合金膜;可镀制磁性材料和非磁性材料。

     


     

     

    设备关键技术特点

    秉承设备为工艺实现提供实现手段的理念,我们做了如下设计和工程实现,实际运行效果良好,为用户的专*用*工*艺实现提供了精*准*的工艺设备方案。

    靶材背面和溅射靶表面的结合处理

    -靶材和靶面直接做到面接触是很难的,如果做不到面接触,接触电阻将增大,导致离化电场的幅值不够(接触电阻增大,接触面的电场分压增大),导致镀膜效果不好;电阻增大导致靶材发热升温,降低镀膜质量。

    -靶材和靶面接触不良,导致水冷效果不好,降低镀膜质量。

    -增加一层特殊导电导热的软薄的物质,保证面接触。

     

     

    距离可调整

    基片和靶材之间的距离可调整,以适应不同靶材的成膜工艺的距离要求。

     

     

     

    角度可调

    磁控溅射靶头可调角度,以便针对不同尺寸基片的均匀性,做精*准*调控。

     

     

     

    集成一体化柜式结构

    一体化柜式结构优点:

    安全性好(操作者不会触碰到高压部件和旋转部件)

    占地面积小,尺寸约为:长1100mm×宽780mm(标准办公室门是800mm宽)(传统设备大约为2200mm×1000mm),相同面积的工作场地,可以放两台设备。

     

     

    控制系统

    采用计算机+PLC两级控制系统

     

    安全性

    -电力系统的检测与保护

    -设置真空检测与报警保护功能

    -温度检测与报警保护

    -冷却循环水系统的压力检测和流量

    -检测与报警保护

     

     

    匀气技术

    工艺气体采用匀气技术,气场更均匀,镀膜更均匀。

     

     

    基片加热技术

    采用铠装加热丝,由于通电加热的金属丝不暴露在真空室内,所以高温加热过程中不释放杂质物质,保证薄膜的纯净度。铠装加热丝放入均温器里,保证温常的均匀,然后再对基片加热。

     

     

    真空度更高、抽速更快

    真空室内外,全部电化学抛光,完全去除表面微观毛刺丛林(在显微镜下可见),没有微观藏污纳垢的地方,腔体内表面积减少一倍以上,镀膜更纯净,真空度更高,抽速更快。

     

     

    设备详情

    设备结构及性能

    1、单镀膜室、双镀膜室、单镀膜室+进样室、镀膜室+手套箱

    2、磁控溅射靶数量及类型:1 ~ 6 靶,圆形平面靶、矩形靶3、靶的安装位置:由下向上、由上向下、斜向、侧向安装

    3、靶的安装位置:由下向上、由上向下、斜向、侧向安装

    4、磁控溅射靶:射频、中频、直流脉冲、直流兼容

    5、基片可旋转、可加热

    6、通入反应气体,可进行反应溅射镀膜7、操作方式:手动、半自动、全自动

     

     

    工作条件

     供电  ~ 380V  三相五线制

     功率  根据设备规模配置  

     冷却水循环 根据设备规模配置

     水压  1.5 ~ 2.5×10^5Pa

     制冷量  根据扇热量配置  

     水温  18~25℃  

     气动部件供气压力  0.5~0.7MPa  

     质量流量控制器供气压力  0.05~0.2MPa  

     工作环境温度  10℃~40℃  

     工作湿度  ≤50%

     

    设备主要技术指标

    -基片托架:根据供件大小配置。

    -基片加热器温度:根据用户供应要求配置,温度可用电脑编程控制,可控可调。

    -基片架公转速度 :2 ~100 转 / 分钟,可控可调;基片自转速度:2 ~20 转 / 分钟。

    -基片架可加热、可旋转、可升降。

    -靶面到基片距离: 30 ~ 140mm 可调。

     -Φ2 ~Φ3 英寸平面圆形靶 2 ~ 3 支,配气动靶控板,靶可摆头调角度。

    -镀膜室的极限真空:6X10-5Pa,恢复工作背景真空 7X10-4Pa ,30 分钟左右(新设备充干燥氮气)。

    -设备总体漏放率:关机 12 小时真空度≤10Pa。

     

    1-3-6-3-2-7-5-0-0-1-7

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