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    晶淼湿法金属刻蚀机

    产品品牌

    JM晶淼

    发货期限:

    60-90天

    库       存:

    50

    产       地:

    中国-江苏省

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    面议
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    邮件:suzhoujingmiao@126.com

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    主营:半导体清洗、LED清洗、酸洗腐蚀设备

    地区:中国-江苏省

    地址:苏州工业园区金海路34号

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    品牌:JM晶淼

    型号:

    所属系列:半导体清洗设备-强酸碱腐蚀清洗-金属腐蚀清洗机

     湿法蚀刻设备,可广泛用于IC生产和半导体元器件生产中晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除硅片表面的有机物.颗粒.金属杂质.自然氧化层及石英.塑料等附件器皿的污染物,且不破坏晶片表面特性。可用于扩散前、光刻后、CMP后及氧化前等工艺的刻蚀清洗。例如:RCA清洗、SPM清洗、HPM清洗等

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