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一种新型产品，它不会破坏表面的硅或氧化硅，因为它包含部分溶剂组成。它的清洁能力是很强，清洗后任何蜡，胶或粒子都不会残留在晶圆的表面。传统的中性水溶性清洗剂与它的清洁能力是无法相比的。用本品清洗后也不会造成工件后道工艺的麻烦，它的残留很容易被清除。
特点：可作为电子零件，显示器玻璃（液晶显示器，等离子等）和精密零件的清洗剂。适用清除硅片刻蚀过程中带上的蜡，胶等颗粒。
清洗液是能去除颗粒和有机物质的碱性溶液。由于过氧化氢为强氧化剂，能氧化硅片表面和颗粒。颗粒上的氧化层能提供消散机制，分裂并溶解颗粒，破坏颗粒和硅片表面之间的附着力，而脱离硅表面。过氧化氢的氧化效应也在硅片表面形成一个保护层，阻止颗粒重新粘附在硅片表面。随后将硅片放入到10%的溶液中浸泡2分钟，可以将硅片表面自然生成的氧化膜去除并抑制氧化膜再次形成，同时还可以将附着在氧化膜上的金属污染物溶解掉。
湿法清洗工艺用于去除硅片表面的金属。用高氧化能力和低PH值的溶液，才能去除表面的金属粘污。此时，金属被氧化成为离子并溶于酸液中，金属和有机物粘污中的电子被清洗液俘获并氧化。因此电离的金属溶于溶液中，而有机杂质被分解。继续用在室温下清洗硅片2分钟，最后用去离子水超声清洗数次去除残留的洗液。
