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坚膜烘箱用于半导体制造中半导体衬底片、硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料显影后坚膜烘烤；也适用于涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤以及电子液晶显示、LCD、CMOS、IS、医药、实验室等生产及科研部门。
1、完全蒸发掉光刻胶里面的溶剂（以免在污染后续的离子注入环境，例如DNQ酚醛树脂光刻胶中的氮会引起光刻胶局部爆裂）；
2、以提高光刻胶在离子注入或刻蚀中保护下表面的能力；
3、进一步增强光刻胶与硅片表面之间的黏附性；
4、进一步减少驻波效应。
坚膜烘箱，真空坚膜烤箱主要参数：
洁净度：百级；
电源电压：AC 220V±10%/50Hz±2%
输入功率：2000W
温度范围：RT+10℃-250℃
温度分辨率：0.1℃
温度波动度：±0.5℃
达到真空度：133Pa（可选择热风循环烤箱）
工作室尺寸（mm）：450*450*450
搁板层数：2层
设备采用先进成熟的设计思想，制造技术。
设备在具有优良的品质，即可靠性要高，使用寿命长。
设备具有良好的操作性，方便的维修性，可靠的安全性。
坚膜烘箱，真空坚膜烤箱使用注意事项：
1、烘烤不足，抗蚀性差，容易掉胶，降低针孔填充能力，降低与基底的黏附能力。
2、烘烤过度，掩膜难以去除或开裂，引起光刻胶的流动，使图形精度降低，分辨率变差。
3、腐蚀时间长的可以采取中途多次坚膜。
