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    ABM-LED光刻机(标准型) 怡合瑞丰

    应用于半导体行业:

    半导体加工设备-光刻设备-UV光刻机

    产品品牌

    怡和瑞丰

    规格型号:

    ABM/6/350/NUV/DCCD/M

    库       存:

    100

    产       地:

    美国

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    10000.00
    交易保障 担保交易 网银支付

    品牌:怡和瑞丰

    型号:ABM/6/350/NUV/DCCD/M

    所属系列:半导体加工设备-光刻设备-UV光刻机

    ABM-LED光刻机(标准型) 怡合瑞丰



                            设备型号ABM/6/350/NUV/DCCD/M

    ABM-LED光刻机(标准型)适用于蓝光LED、红光LED、绿光LED、白光LED、绿光LED、TFT-LCD光刻,OLED光刻的研发和生产,ABM-LED光刻机(标准型)具有高稳定性、坚固耐用、性能卓越等突出特点。因此被大多数研发机构和生产企业所青睐。

    光学系统:

     曝光时间调解器:0.1至999.9秒(可调节精度0.1s)
     365-400nm光强传感及电源供应控制电路及反馈闭环;
     声控功率警报装置可防止系统功率超过设定指标;
     有安全保护装置的温度及其气流传感器;
     全景准直透镜光线偏差半角: <1.84度;
     波长滤片检查及安装装置
     抗衍射反射功能高效反光镜;
     二向色的防热透镜装置;
     防汞灯泄漏装置;
     配备蝇眼棱镜装置
     配备近紫外光源
        --365 nm 输出强度 – 大约 18-20 mW/ cm2
        --400 nm 输出强度 – 大约 30-35 mW/ cm2

    主要配置:

     6“光源系统
     配置2英寸或4英寸卡盘
     手动系统(半自动系统, 自动对准系统可选)
     支持电源350w
     90-600倍连续放大CCD(方便LED基片对准)
     棱镜对准装置,使最小双视场对准缩小为10mm(支持LED碎片光刻)

    主要性能指标:

     光强均匀性Beam Uniformity::
       --<±1% over 2” 区域
       --<±2% over 4” 区域
       --<±3% over 6” 区域

     
    接触式样曝光特征尺寸CD(近紫外NUV):0.5 um
     支持接近式曝光,特征尺寸CD:
         --0.8um 硬接触 
        --1um    20um 间距时
        --2um    50um 间距时
     
    正面对准精度 ±0.5um
     支持LED优异电流控制技术PSS工艺光刻
     支持真空、接近式、接触式曝光
     支持恒定光强或恒定功率模式

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