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    KD-1型 大面积曝光机 上海学泽光学机械有限公司

    应用于半导体行业:

    半导体加工设备-光刻设备-UV光刻机

    产品品牌

    劳动牌

    库       存:

    100

    产       地:

    中国-上海市

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    面议
    交易保障 担保交易 网银支付

    品牌:劳动牌

    型号:

    所属系列:半导体加工设备-光刻设备-UV光刻机

    KD-1型 大面积曝光机 上海学泽光学机械有限公司 设备商城

     
     

    本机适用于液晶、特种器件、特种电路、传感器及制版、晒版、印刷电路板、标牌和在金属薄片上制作精密图形等。

    主要技术参数

    1、基片尺寸(mm): ≤200*200,厚度(mm):≤5
    2、基片材料: 硅片、玻璃、陶瓷、铌酸锂、覆箔板、铝板、铜板和不锈钢板等
    3、掩模材料: 玻璃、涤纶片
    4、曝光幅面(mm): 200*200
    5、曝光谱线(nm): 365、405
    6、曝光均匀性: ≤±10%
    7、曝光方法: (a)真空接触曝光;(b)接触曝光

     

    8、曝光分辨率(mm): ≤0.01
    9、曝光时间(s): 0.1~99.9
    10、外界要求: 真空源≤-0.08Mpa。电源220V±10%

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