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    德国Eulitha PhableR 100高分辨紫外光刻系统

    应用于半导体行业:

    半导体加工设备-光刻设备-UV光刻机

    产品品牌

    德国Eulitha

    库       存:

    1

    产       地:

    全国

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    面议
    交易保障 担保交易 网银支付

    品牌:德国Eulitha

    型号:

    所属系列:半导体加工设备-光刻设备-UV光刻机

     

    德国Eulitha PhableR 100高分辨紫外光刻系统 

    科研/生产兼用 

    简介: 

    PhableR 100 紫外光刻机是一套低成本的光学曝光系统,但却能获得高分辨率的周期性结构。同传统的紫外曝光机类似,涂覆了光刻胶的晶片以接近方式放置在掩膜版下面,被紫外光束照射。由于Eulitha公司拥有突破性的PHABLE 曝光技术,在"PHABLE"模式下,分辨率不再受到衍射的限制,从而曝光出亚微米的线性光栅和二维光栅(六角形和正方形),且曝光结果非常均匀,质量很 好;在"mask aligner"模式下,能非常轻松地获得微米尺寸的图形。

    特点: 

    · 高效的大面积亚微米-纳米图形化设备

    · 操作简单、工作稳定,兼容科研及批量生产

    · 纳米周期性图案解决方案

    优势

    · 大面积图形化设备:适用4、6、8寸衬底

    · 高曝光效率:非步进式曝光,无拼接,单次全场曝光实现整片图形化

    · 高精度:光学衍射自成像原理,突破传统曝光精度极限

    · 非接触式曝光

    · 设备没有景深限制,曝光过程无需对焦

    · 双工作模式(UV375机型):高分辨模式(周期性纳米-微米结构),一般紫外光刻模式(非周期结构)

    · 设备采用通用的商业光刻胶,根据客户的图形,提供工艺技术支持。

     

    PhableR 100革新性紫外光刻机 

     

     

     

    技术指标: 

    光源

    UV375nm

    DUV266nm

    DUV193nm

    分辨率

    125nm

    75nm

    62nm

    周期范围

    250-3000nm

    150-2500nm

    125-2000nm

    操作方式

    手动装片-自动曝光

    参数设置

    触摸屏

    基片尺寸

    最大4、6、8英寸(尺寸向下兼容)

    PhableR 100 晶圆级光子学结构的曝光工具

    应用: 

    · 图形化蓝宝石衬底(PSS)

    · DFB布拉格光栅

    · 减反层图形

    · 显示滤光片Color Filter

    · 线栅偏振Wire Grid Polarizer(WGP)

    · 光子晶体

    · 磁性纳米结构

    · 太阳能光伏

    · 生物传感器

    · AR、VR技术

     

     

     

     

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