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    MPMS3 最新一代磁学测量系统

    应用于半导体行业:

    半导体测试设备-光学类测试-其他

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    1

    产       地:

    全国

    数       量:

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    型号:

    所属系列:半导体测试设备-光学类测试-其他

     

    最新一代磁学测量系统MPMS3

     

    最新一代磁学测量系统—MPMS3

         2013 年 3 月,Quantum Design 公司在美国物理协会年会上,发布了最新设计的磁学测量系统:MPMS3系统。该系统仍旧基于SQUID探测技术,但不是MPMS(SQUID)XL系列和SQUID-VSM系统的简单升级。MPMS3系统是Quantum Design公司潜心开发多年的结晶,在该产品上集成了大量的全新专利技术。 

         对比于MPMS XL和SQUID-VSM磁学测量系统,MPMS3将二者的优点进行了融合。MPMS3系统外观虽然与SQUID-VSM相似,但系统进行了重新设计,同时具备了SQUID-VSM的高速高精度测量,以及MPMS XL的DC测量模式、Raw Data功能和Point- to-Point测量功能。系统带有全新的DC Scan测量模式,VSM测量模式以及交流测量模式可供用户选择,最大程度的满足用户的测量要求。MPMS XL用户和SQUID-VSM用户将会非常容易的上手使用MPMS3。另外对于SQUID-VSM用户,我们也提供了升级方案,用户可将SQUID-VSM系统升级至MPMS3系统。

        MPMS3系统带有的新式完全无液氦Evercool选件,可实现全氦气启动和运行,完全摆脱对液氦的依赖。

     

    新的专利技术

    1) RapidTemp™快速温控技术

        系统从300K匀速降至10K仅需15分钟,从10K稳定到1.8K也仅需5分钟

    2) QuickSwitch™超导开关技术

        超导开关在超导态和正常态之间的转换仅需要1秒钟时间

    3) FastLab™快速数据采集技术

        系统的超导磁体允许最大700Oe/s的励磁速度,在零场下仅需4秒数据平均时间(data average time),系统便能达到1×10-8emu的测量精度;并且系统允许用户在扫场模式下进行高精度的测量。

     

      

              5K温度下铁磁薄膜MH曲线                MPMS3 DCScan与MPMS XL对比 

     

    MPMS3系统技术参数:

                   温度区间:     1.9~400 K 连续控制
                   降温速度:     30 K/min 300 K>T>10 K                        
                                        10 K/min 10 K>T>1.8 K
               样品腔内径:  9 mm   
                   磁场强度:      ±7 特斯拉
                 磁场均匀度:   4 cm 范围内达到 0.01%    
                   励磁速度:      最大700 Oe/s  
                   样品振动范围:0.1-8 mm (峰值)
                   最大测量磁矩:10 emu                    
                   测量灵敏度:   <1×10-8 emu  H=0 T (10秒测量时间)  
                                          <8×10-8 emu  H=7 T (10秒测量时间)

     

     

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