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光刻代加工

发表于:2019-10-24  作者:gdisit  关注度:478

 
设备名称:光刻机 /美国ABM
 
用途:光刻胶的图形化
 
技术指标:
1. 紫外光波长:365nm,曝光能量密度18-20mW/cm2可调
2. 样品尺寸:6英寸及以下,光刻板尺寸3、4、5、7英寸
3. 分辨率:接触曝光<0.5μm,接近式曝光≤1μm
4. 对准精度:<1μm

案例:

 1μm线条光刻  多层光刻板套刻

                                                            1μm线条光刻                                                       多层光刻板精准套刻

         广东省半导体产业技术研究院微纳加工平台,拥有半导体器件制备工艺研发所需的整套仪器设备,可提供镀膜、刻蚀、光刻等技术服务,加工尺寸覆盖2-6英寸。
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