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4001027270
工 艺：I线光刻机
工艺能力：0.5微米
衬底尺寸：4英寸、5英寸、6英寸、8英寸
传片方式：皮带单片传送，片架到片架传送
二、设备配置：
硅片传输系统
掩膜版自动传输系统
633nm激光对准系统
照明系统500W汞灯光源，365nm波长
二维精密XY工作台
预对准系统
环境控制器
三、工艺指标
PAS5000光刻机是ASML公司生产的I线步进式光刻，其投影背率5：1，曝光波长为365nm，分辨率为0.5um，最大曝光场大小为15mm*19mm。设备匹配对准精度0.1um。
