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    瑞士Sawatec Leaflet_SMD-200 显影机

    产品品牌

    瑞士Sawatec

    库       存:

    1

    产       地:

    全国

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    面议
    交易保障 担保交易 网银支付

    品牌:瑞士Sawatec

    型号:

    所属系列:半导体加工设备-涂胶设备-自动喷涂机

     Sawatec Leaflet_SMD-200 显影机:

    SMD 200
    外露光刻胶的研制是光刻胶研制过程中最关键的步骤之一,因此对研制过程及其参数(温度、研制时间等)的选择要特别注意。
    在喷淋显影过程中,对每个基板分别进行单独显影,并在暴露区域连续喷淋新显影剂或蚀刻剂,以防止显影剂饱和。

     

    SAWATEC开发人员可用于水坑或喷雾开发,在此过程中,根据应用程序的技术和经济标准选择最佳流程。与水坑开发相比,喷雾开发的优点是可以释放非常小的精细结构。水坑法的优点是,当衬底有较深的结构时,显着较少的显影液需要和较好的结果。

     

    SMD系列用于清洗和显影8英寸(200mm)以下的晶圆或6英寸(150x150mm)以下的基板。过程——室工作Ø212毫米。

     

    由SAWATEC公司开发的SMD具有良好的工艺性能、低的化学消耗和可靠的重复性,甚至具有较厚的光刻胶层。由于操作简便,易于清洗,这些仪器是理想的适合于实验室,研发,研究所和试点项目。

     

    该仪器可作为台式或移动式机柜。

     

    功能(基本配置)

     

    FEATURES (BASIC CONFIGURATION)

    § Up to 50 programmes with 24 segments each can be programmed

    § Quick start function for repeat processes

    § User-friendly process configuration with touch screen panel

    § Process parameter: speed, acceleration, process time, speed of the spray arm, developing spray time

    § Electrical driven spray arm, with dynamic or static function

    § Developer line and media tank (2 litre) for one developer included

    § Nozzle for DI-water-rinse and N2 drying on the spray arm

    § Nozzles in the process bowl for the backside rinse

    § Control elements for dosing of the compressed air and vacuum

    § Rotational direction can be selected (CW, CCW)

    § Manual loading and unloading of the substrates


    Mechanical substrate fixation

    § Acoustic signal when the process has finished

     

    PERFORMANCE DATA

    § Speed range: 0 to 3’000rpm +/-1rpm 1)

    § Speed acceleration: 0 to 3’000rpm in 0.3 seconds 1)

    § Process time up to 2376 seconds

    § Developer spray time 99 seconds/segment

    § Speed of the spray arm 10 to 200mm/seconds

    § Rinse and N2 drying 99 seconds/segment

    § Heatable process hood up to 50°C

    § Spray nozzle made of PEEK 0,8mm

     

     

    ADDITIonAL FUNCTIONS (OPTIONS)

    § Additional developer lines (up to 4 developer lines possible)

    § Start/stop foot switch for ease of operation (cable length 1.8m)

    § Separation unit for media exhaust (tank and laboratory equipment)

    § Developer tank heating system (2 litre)

    § Spray nozzle made of PEEK (0,3 / 0,5mm)

    § Nozzle for puddle developing

     


     

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