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    德国Raith EBPG5150 电子束光刻机

    产品品牌

    德国Raith

    库       存:

    1

    产       地:

    全国

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    面议
    交易保障 担保交易 网银支付

    品牌:德国Raith

    型号:

    所属系列:半导体加工设备-光刻设备-电子束曝光机

     
    德国Raith EBPG5150 电子束光刻机
    详细介绍

    EBPG5150使用了155mm大小的样品台,采用跟EBPG5200一样的通用光刻平台设计,对电子束直写应用进行了优化。它可以载入不同大小的样品,包括多片散片以及完整的硅片。 

    00001. 高束流密度,热场发射电子枪可以在20、50和100kV之间切换

    00002. 155mm的平台

    00003. 最小曝光特征尺寸小于8nm

    00004. 高速度曝光,可采用50或100MHz的图形发生器

    00005. 在所有KVs加速电压下,可连续改变的写场大小,最大可以到1mm

    00006. GUI人机交互界面友好,简洁易用,适用于多用户环境

    00007. 多项灵活可选择的配置,可以适用于不同应用的需求

    可选的系统增强升级

    EBPG5150可以选择不同的升级选项,以满足用户不同的技术和预算需求。让全世界的高校等研究类用户也可以使用这款非常先进、高自动化的电子束光刻系统。

    EBPG5150 应用

    · 电子束曝光用于制作GaAs T型器件

     

    · 微盘谐振器

    · 开口环谐振器

    EBPG5150 产品详情

    主要应用:

    · 100KV高加速电压可用于曝光高深宽比纳米结构

    · 高速电子束直写

    · 批量生产,如化合物半导体器件

    · 防伪标识

    电子光学柱技术:

    · EBPG

    · 电子束

    · 100 kV

    样品台:

    · 覆盖完整6英寸硅片大小

    · 标配2工位自动化上料
    (10工位可选)

     

     

     

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