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江苏英特神斯科技有限公司MEMS加工平台位于南京浦口高新技术开发区，平台建于2009年，拥有100级净化厂房40平方米，1000级净化厂房300平方米。MEMS加工平台拥有国内一流的MEMS前道加工设备、技术和人才，面向国内和全球客户，提供完整的MEMS器件设计加工服务。
光刻工艺
光刻工艺一般包括前处理、匀胶、对准曝光、显影、烘干等工艺步骤
光刻设备型号：EVG620 双面光刻机
对准精度（20X目镜）
正面0.5um 背面1.0um
处理晶圆尺寸：
衬底直径150mm，衬底厚度0.1~10mm
匀胶设备
EVG150 全自动涂胶机
国产 KW-4A 手动匀胶机
显影设备
Mask Cleaner
设备型号：Ultratech 603
100级洁净烘箱/HDMS烘箱
SRD甩干机
设备型号：SemiTool ST 470F / ST 870
键合工艺
可进行的键合类型：阳极键合、共晶键合、焊料键合、硅硅键合（预键合）、玻璃-玻璃键合。
键合机型号：EVG 520IS
处理晶圆尺寸：衬底直径150mm
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