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聚焦离子束双束系统用于金属、半导体、电介质、多层膜结构等固体样品上制备微纳结构；高质量定点TEM样品制备；化学和晶体结构三维形态分析。
仪器功能介绍：
一：截面切割表征，可以在样品进行定点切割，并且配合EDS能谱分析表征其截面形貌与元素分布，可用于芯片等器件失效分析，或者实现对样品材料的三维重构分析。
二：直写制备微纳结构，可以于金属、半导体等固体材料上制备线宽15nm以上的纳米结构器件，可用于制备包括光子晶体结构，表面等离激元器件等。
三：配备Pt诱导沉积系统，可以在样品定点区域沉积金属Pt，可用于芯片修补，也可沉积制备纳米图形。
四：制备TEM样品，对样品的进行定点切片。
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