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FIB双束电镜检测

发表于:2020-02-26 作者:ioptee01

       联系方式:18951907529
       聚焦离子束双束系统用于金属、半导体、电介质、多层膜结构等固体样品上制备微纳结构;高质量定点TEM样品制备;化学和晶体结构三维形态分析。

仪器功能介绍:

一:截面切割表征,可以在样品进行定点切割,并且配合EDS能谱分析表征其截面形貌与元素分布,可用于芯片等器件失效分析,或者实现对样品材料的三维重构分析。

二:直写制备微纳结构,可以于金属、半导体等固体材料上制备线宽15nm以上的纳米结构器件,可用于制备包括光子晶体结构,表面等离激元器件等。

三:配备Pt诱导沉积系统,可以在样品定点区域沉积金属Pt,可用于芯片修补,也可沉积制备纳米图形。
       
       四:制备TEM样品,对样品的进行定点切片。

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