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精密光学镀膜

发表于:2020-04-14  作者:ioptee01  关注度:305

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 用于微纳半导体器件的腔面镀膜及光学器件的高精密光学膜沉积,可镀制复杂膜系、超薄膜层、金属氧化物及氮化物薄膜,波段覆盖紫外到2000nm。
型号 衡岳真空 RSP800

所用设备采用反应磁控溅射系统,采用高性能离子源配合磁控溅射的方式镀制高精密薄膜,具有电子束蒸发产能大、沉积速度快、可 以镀制大尺寸工件的优点,以及离子束溅射膜层致密、膜层纯度高、 沉积速率稳定的优点,并且有效降低了使用成本,正在成为新一代的高端精密光学镀膜系统。
可最大用于8英寸晶圆片,盘内盘间均匀性及重复性优于±0.5%。
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