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    Filmlab-R100 反应离子刻蚀机

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    产       地:

    中国

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    品牌:

    型号:

    所属系列:半导体加工设备-刻蚀设备-反应离子刻蚀机

      可使用常规F基气体刻蚀Si、SiO、SiN、石英等材

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    提问:
     

    你们这个用的是什么气体??HF吗?

    gookjll  2017-08-07

     不用HF,可以使用CF4,SF6,CHF3,C4F8,O2,Ar,等各种F基气体,特殊也可以订做Cl基气体的。

    2017-08-12

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